中芯国际光罩厂提供其代工客户和其它芯片加工厂及机构光掩模制造服务。配备了先进的设备工具，中芯光罩厂运用光学趋近效应修正技术(OPC)，为客户提供二元铬版光掩模以及相位移动光掩模。5"×5"和6"×6"的光掩模均可用于G-line，I-line，深紫外线DUV及ArF步进曝光机和扫描曝光机。

客户使用中芯光掩模制造服务作为其一站式服务的一部分，可以享受到如下好处：缩短从流片到芯片制造的周期、降低光掩模在运输过程中的损伤机率、增加服务的灵活性以及减少成本。另外，客户可以享受到便捷的在线光掩模资料检视以及远程制版图形的检查（job deck view）服务。

中芯光罩厂实施严格的品质控制，与我们强大的技术及研发队伍紧密合作，生产出的光掩模关键尺寸控制严格，缺陷率极低。每张光掩模的状态都会记录在光掩模状态跟踪系统里并被严密追踪，以确保高品质光掩模的出货。实施定期的检查，帮助我们避免和及早发现ESD损伤、划痕、颗粒、薄膜框架及老化等问题。

中芯光罩厂实行严密的安全控制来保障客户的知识产权。独立的内部网络以及专门的防火墙构筑了安全的、访问限制的光罩厂生产环境。光罩厂资料以及网络安全包括以下方面：